光學綜合孔徑干涉成像技術

閉合相位技術、U-V覆蓋技術和像重構(gòu)技術是光學綜合孔徑干涉成像的三個關鍵技術.文中詳細介紹了閉合相位技術的原理、U-V覆蓋技術(包括即時覆蓋和通過孔徑旋轉(zhuǎn)的非即時覆蓋兩種方法)和用于圖像重構(gòu)的常用方法以及用于光學綜合孔徑像重構(gòu)的混合迭代方法,最后討論了光學綜合孔徑干涉成像技術的應用.

作 者： 王海濤 周必方   作者單位： 國家天文臺,南京天文光學技術研究所,江蘇,南京,210042  刊 名： 光學精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名： OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年，卷(期)： 2002 10(5)  分類號： O436.1  關鍵詞： 光干涉   光學綜合孔徑   圖像重構(gòu)   閉合相位   U-V覆蓋  

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